本報訊 （記者劉曉一）深圳市龍圖光罩股份有限公司（以下簡稱“龍圖光罩”）將于8月6日迎來科創(chuàng)板上市一周年。作為國內(nèi)稀缺的獨立第三方半導(dǎo)體掩模版廠商，公司在上市之際推進的核心募投項目——珠海高端半導(dǎo)體芯片掩模版制造基地，現(xiàn)已取得階段性成果，彰顯了其在半導(dǎo)體關(guān)鍵材料領(lǐng)域的突破實力。

    龍圖光罩相關(guān)人士向《證券日報》記者介紹，2025年上半年，公司珠海工廠現(xiàn)已順利投產(chǎn)。其90nm節(jié)點產(chǎn)品已實現(xiàn)從研發(fā)到量產(chǎn)的跨越，65nm產(chǎn)品也已進入送樣驗證階段。經(jīng)過多年發(fā)展，公司半導(dǎo)體掩模版工藝節(jié)點從1μm已提升至65nm，不僅填補了國內(nèi)相關(guān)領(lǐng)域的產(chǎn)能缺口，更以技術(shù)創(chuàng)新為我國特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)筑牢了發(fā)展根基。

    政策東風(fēng)引路

    珠海工廠肩負技術(shù)攻堅使命

    半導(dǎo)體掩模版被譽為芯片制造的“母版”，其精度與制程能力直接決定芯片的最小線寬和性能上限，是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中不可或缺的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。行業(yè)數(shù)據(jù)顯示，2024年全球半導(dǎo)體市場規(guī)模已突破6000億美元，同比增長近20%。在這一輪產(chǎn)業(yè)擴張中，中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控需求尤為迫切。

    國家密集出臺政策支持半導(dǎo)體掩模版產(chǎn)業(yè)發(fā)展。《“十四五”國家信息化規(guī)劃》明確提出“加快集成電路關(guān)鍵技術(shù)攻關(guān)”；《新時期促進集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展的若干政策》則從財稅、研發(fā)等多維度給予支持，為行業(yè)技術(shù)攻堅提供了政策保障。

    龍圖光罩成立于2010年，是擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的獨立第三方半導(dǎo)體掩模版廠商。公司產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于功率半導(dǎo)體、MEMS傳感器、IC封裝、模擬IC等特色工藝半導(dǎo)體領(lǐng)域，終端應(yīng)用涵蓋新能源、光伏發(fā)電、汽車電子等場景。

    2024年8月份，龍圖光罩在上交所科創(chuàng)板上市。公司將上市募集的資金重點投向珠海工廠，即高端半導(dǎo)體芯片掩模版制造基地和高端半導(dǎo)體芯片掩模版研發(fā)中心兩個項目，全力推進高端掩模版技術(shù)突破。

    往前回顧，2022年8月份，龍圖光罩在珠海高新區(qū)設(shè)立子公司——珠海市龍圖光罩科技有限公司（以下簡稱“珠海龍圖”），并啟動建設(shè)上述兩個募投的高端半導(dǎo)體芯片掩模版項目。珠海龍圖規(guī)劃的廠區(qū)占地面積約2萬平方米，計劃一期生產(chǎn)65nm至130nm工藝節(jié)點的芯片掩模版，可滿足芯片設(shè)計公司及晶圓廠對該制程范圍內(nèi)的光罩產(chǎn)品需求。

    2025年上半年，龍圖光罩珠海工廠已順利投產(chǎn)。目前，公司第三代PSM產(chǎn)品的工藝調(diào)試與樣品試制已順利完成，KrF-PSM和ArF-PSM產(chǎn)品陸續(xù)送抵部分客戶進行驗證；90nm節(jié)點產(chǎn)品成功實現(xiàn)從研發(fā)到量產(chǎn)的跨越，成為國內(nèi)少數(shù)能穩(wěn)定供應(yīng)該制程掩模版的企業(yè)；65nm產(chǎn)品也已進入送樣驗證階段，進展符合預(yù)期。

    這一系列成果的取得，不僅讓珠海工廠成為公司突破高端制程的“主陣地”，更有助于我國打破在中高端掩模版領(lǐng)域長期以來的技術(shù)壁壘，為產(chǎn)業(yè)鏈上下游協(xié)同發(fā)展提供了關(guān)鍵支撐。

    技術(shù)創(chuàng)新驅(qū)動

    勾勒高端制程新圖景

    據(jù)了解，掩模版制造是一門融合精密光學(xué)、材料科學(xué)與軟件工程的“微觀雕刻藝術(shù)”，90nm以下制程對精度控制、缺陷檢測的要求極為苛刻，任何微小誤差都可能導(dǎo)致下游芯片良率大幅下降。龍圖光罩憑借多年技術(shù)積累，構(gòu)建起覆蓋全生產(chǎn)流程的核心技術(shù)體系，為珠海工廠的高端化突破提供了“硬支撐”。

    公司2024年年報顯示，公司在高精度半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域不斷進行設(shè)備引進與技術(shù)攻關(guān)，針對半導(dǎo)體掩模版的工藝特點，形成了多項自主研發(fā)的核心技術(shù)，包括圖形補償（OPC）技術(shù)、精準(zhǔn)對位標(biāo)記技術(shù)、光刻制程管控技術(shù)等，涵蓋CAM、光刻、檢測三大環(huán)節(jié)。

    截至2024年底，公司已累計獲得25項發(fā)明專利和36項軟件著作權(quán)，當(dāng)年研發(fā)投入達2305.07萬元，同比增長14.25%，占營業(yè)收入比例達9.35%。

    站在上市一周年的新起點，龍圖光罩將繼續(xù)以珠海工廠為支點，向高端半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域不斷突破，實現(xiàn)“技術(shù)跟跑”向“并跑”的跨越，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控注入源源不斷的動力，書寫中國半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)崛起的新篇章。

（編輯 郭之宸）